冷鏡式露點儀，使用二級半導體制冷片對鏡面制冷。當被測氣體中的水蒸氣隨著鏡面溫度逐漸降低而達到飽和，當鏡面溫度低于露點值時，凝結速度高于升華速度，露層增厚；反之露層減少。當水蒸氣的凝結與升華速度平衡時，鏡面溫度即為露點溫度。

 

鏡面污染對露點測量有哪些影響？

 

在露點測量中，鏡面污染是一個突出的問題，其影響主要表現在兩個方面：一是拉烏爾效應，二是改變鏡面本底散射水平。

拉烏爾效應是由水溶性物質造成的。如果被測氣體中攜帶這種物質（一般是可溶性鹽類）則鏡面提前結露，使測量結果產生正偏差。若污染物是不溶于水的微粒，如灰塵等，則會增加本底的散射水平，從而使光電露點儀發生零點漂移。此外，一些沸點比水低的容易冷凝的物質（例如有機物）的蒸氣，不言而喻將對露點的測量產生干擾。因此，無論任何一種類型的露點儀都應防止污染鏡面。一般說來，工業流程氣體分析污染的影響是比較嚴重的。但即使是在純氣的測量中鏡面的污染亦會隨時間增加而積累。為了消除污染的影響，人們摸索出各種各樣的方法。直觀的方法是對被測氣體進行過濾。同時根據具體情況定期或隨時清洗鏡面。此外，通常采用的辦法是在每次測量前對鏡面進行加熱，并通氣吹除污染物。在污染比較明顯的情況下也可以通過多次重復進行結露和消露過程來實現。為了消除易冷凝碳氫化合物的干擾，有人采用雙鏡面技術，在露點室中增設一個與露鏡相連接的“干”鏡面，其溫度稍高于露鏡，當氣進入露點室時，“干”鏡受到和露鏡一樣的污染，但卻不會結露，從而提供補償。